设备名称:电子束蒸发
设备型号：Svac-FlimLab-550Eb
技术参数：
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- 电源：AC380V50Hz
- 最大功率：15KW
- 额定功率：6KW
- 接地线：室内具有独立接地线＜4Ω
- 整体泄漏率：≤1X10-9Pa.m3/S
- 空载极限真空：小于6.710-5Pa
- 电子束偏转角度：270度
- 蒸发功率5~10KW
- 加速电压：-10KVmax
- 扫描范围：X±25mm；Y±25mm
- 扫描频率：0-500Hz
- 可蒸发大多数常用金属及氧化物等,最高温度可高于3000度
- 基片放置于腔体上方，采用导轨式安装，最大适合尺寸125125mm，厚度最高4mm。样品台可加热，最高温度450度，温度控制精度±0.5度，可设定升温斜率，温度过冲小于1度。加热区内，温度均匀性±5℃。旋转、升降均采用步进电机驱动
应用范围：该系统由真空系统、样品台、电子枪模块、控制系统、膜厚监测系统等组成，适用于在高真空环境下制备金属膜薄，该设备可用于科研实验，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。
Svac-FlimLab-550系列电子束蒸发系统，性能优秀，功能全面，对于MEMS实验室以及半导体试验线尤为合适。
仪器共享平台：衢州学院机械工程学院
联系人：方兴博士15657051987/zjqzfangyu@sjtu.edu.cn
