扩散炉

设备名称: 扩散炉

设备型号：Svac-FlimLab-Sub100

技术参数：

1. 1. - 炉体恒温区300mm，内径Ф210mm，外径Ф380mm。可满足6英寸硅片的扩散要求
    - 炉丝：加热丝采用进口Ф8mm炉丝，最高设置温度1280℃，加热炉丝采用三段控温结构

应用范围：扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

仪器共享平台：衢州学院机械工程学院